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OpenSwitzerland

Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie

Key facts

Country
Switzerland
Region
CH011
Estimated value
not stated
Procedure
open
Published
Bids due
Source
TED (EU tenders)

Description

L’EPFL a l’intention d’acquérir un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour son Centre de MicroNanoTechnologie (CMi), afin de traiter aussi bien des photomasques carrés que des wafers standards, et de diverses dimensions possibles. Le CMi est une installation de salles blanches dédiée à la micro/nano fabrication, centrale pour l’ensemble des facultés de l’EPFL, ainsi que pour les industriels locaux (>650 utilisateurs actifs par an). Cet équipement sera dédié aux besoins de recherche de pointe en micro et nano fabrication, et plus particulièrement à la gravure de couches de…

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