Перейти до змісту

ВідкритийНімеччина

Хіміко-механічна поліруюча машина

Оригінальна назва: Chemisch-mechanische Poliermaschine (Переклад назви автоматичний.)

Основне

Країна
Німеччина
Регіон
DEG03
Очікувана вартість
не вказано
Процедура
open
Опубліковано
Подання пропозицій до
Джерело
TED (закупівлі ЄС)

Опис

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer (RMS-Rauigkeit) erreichen können. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2 Die Vergabestelle behält sich vor Angebote über einem Gesamtauftragswert von 225.000,00 Euro netto…

Короткий зміст і чому підходить вам — у кабінеті

Підписники бачать стислий зміст своєю мовою та пояснення, чим тендер збігається з їхніми пошуками.

Відкрити в кабінеті

Відкрити на майданчику: TED (закупівлі ЄС)Перехід на сайт джерела. Умови участі та документи там.

Отримувати такі тендери щодня

Збережіть пошук за категорією, і нові тендери прийдуть на пошту або в Telegram раніше, ніж їх побачать конкуренти. 5 днів безкоштовно.

Почати безкоштовно

Без картки. Перший збережений пошук уже буде налаштовано.