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Original title: Chemisch-mechanische Poliermaschine (The title is machine-translated.)
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer (RMS-Rauigkeit) erreichen können. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2 Die Vergabestelle behält sich vor Angebote über einem Gesamtauftragswert von 225.000,00 Euro netto…
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Szpital Specjalistyczny w Kościerzynie sp. z o.o.Poland, PL637
Uniwersytet Medyczny im. Karola Marcinkowskiego w PoznaniuPoland, PL415
Österreichische Gesundheitskasse - ÖGKAustria, AT221
Centro de Investigación Cooperativa en Nanociencias CIC nanoGUNE - CIC nanoGUNESpain, ES212
Aalto University Foundation srFinland, FI1B1
Politechnika WrocławskaPoland, PL514
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